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半導体モールド金型

半導体モールド金型

耐久性アップ
離型性アップ
脱膜再コーティング可能
環境負荷低減(RoHS 適合)

セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。
PBS(プラズマブースタースパッタリング)プロセスにより成膜された2~5μmの窒化クロム被膜(CrxNy)はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。
また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再コーティング加工も可能です。

耐摩耗性と摩擦係数

セルテスXコーティングのSiC ボールとの摩擦摩耗試験セルテスXコーティングのSiC ボールとの摩擦摩耗試験セルテスXコーティングのSiC ボールとの摩擦摩耗試験では、TiN コーティングの約10倍、DLCコーティングと同等の耐摩耗性を示しました。
またSiCとの摩擦係数はTiNやCrN(セルテスN)では0.45ですがセルテスX は0.29と低い摩擦係数を示し、良好なトライボロジー特性を有していることがわかります。

撥水性と離型性

セルテスXコーティングの純水液滴の接触角は100度以上で、他の硬質薄膜より高い撥水性を示します。
また純水とヨウ化メチレンの接触角測定から計算された表面自由エネルギーは25mN/mと、もっとも小さいことから、表面での反応が起こりにくく、エポキシ樹脂に対して良好な離型性を有しています。
純水液滴の接触角各種硬質薄膜の表面自由エネルギー(mN/m)

適用被膜の種類

セルテスX セルテスN