銅合金・アルミ合金・リードフレーム材・Niめっき等の自然酸化層、強制加熱酸化層の工程内での定量管理が可能です。

銅合金の自然酸化膜の定量評価

図１　電荷付与後の表面電位推移　＜りん脱酸銅＞

図２　初期表面電位 Viの推移

図３　表面電位シフト dV0の推移

図４　表面電位シフト dV0の推移（りん脱酸銅）

所見

試料	換算仕事関数θ(eV)	測定値Vi(mV)
りん脱酸銅	4.89	215
真鍮	4.61	491
りん青銅	4.95	151
洋白	4.83	271

Viは研磨直後あるいは約1時間後から徐々に小さくなり、約100時間で安定領域に入ります（図２）。
Viの減少量はViが大きい（仕事関数が小さい）程大きい（もっとも卑なZnを含む真鍮、洋白で大きい）。
dV0は放置100時間後から対数関数に比例して増加します（図３、４）。
上記から自然酸化膜は放置後約100時間で表面全体を覆い、その後対数関数に比例して成長します。
別の測定から約250日放置後のりん脱酸銅上に生成された自然酸化膜（Cu2O）の厚さは約15nmと推定されます。